著录信息
- 专利名称：一种在树脂基片使用磁控溅射制备ITO膜的方法
- 专利类型：发明
- 申请号：CN201110295242.4
- 公开(公告)号：CN102312208B
- 申请日：20110930
- 公开(公告)日：20121219
- 申请人：芜湖长信科技股份有限公司
- 发明人：许沭华,夏大映,张兵,何晏兵,孔德兴,康傲飞
- 申请人地址：安徽省芜湖市经济技术开发区汽经二路以东
- 申请人区域代码：CN340207
- 专利权人：芜湖长信科技股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：C23C14/35,C23C14/06
- 优先权：无
- 专利代理机构：芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107
- 代理人：张小虹
- 审查员：赵妍妍
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
树脂基片,磁控溅射,电阻率,运送,冷却,磁控溅射设备,化学稳定性,阴极直流电,高透过率,基片加热,抽真空,垂直式,电阻值,加热室,溅射室,均匀性,冷却室,膜沉积,电阻,镀膜,溅射,卸载,密封,装载
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