著录信息
- 专利名称：避镭射版缝的凹印印刷方法
- 专利类型：发明
- 申请号：CN200910108947.3
- 公开(公告)号：CN101961963B
- 申请日：20090722
- 公开(公告)日：20120822
- 申请人：深圳市科彩印务有限公司
- 发明人：张建平,张华军,郑湘文
- 申请人地址：518118 广东省深圳市龙岗区坪山镇深圳大工业区兰竹东路
- 申请人区域代码：CN440307
- 专利权人：深圳市科彩印务有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：B41M1/10,B41M1/14,B41F9/02,B41F13/02
- 优先权：无
- 专利代理机构：深圳市睿智专利事务所 44209
- 代理人：罗兴元;郭文姬
- 审查员：吴凡
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
镭射纸,印刷,拉伸,镭射,定位光标,电眼,印制,凹印印刷,放卷装置,跟踪技术,印刷成品,印刷色组,印刷图文,凹印机,成品率,凹印,侧边,光标,印版,周长
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