著录信息
- 专利名称：化学气体沉积设备
- 专利类型：实用新型
- 申请号：CN201621025867.3
- 公开(公告)号：CN206033928U
- 申请日：20160831
- 公开(公告)日：20170322
- 申请人：圆融光电科技股份有限公司
- 发明人：焦建军,黄小辉,周德保,康建,梁旭东
- 申请人地址：243000 安徽省马鞍山市经济技术开发区宝庆路399号1栋
- 申请人区域代码：CN340503
- 专利权人：圆融光电科技股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：C30B25/02,C30B29/40
- 优先权：无
- 专利代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
- 代理人：张洋;黄健
- 审查员：无
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
反应腔,清洁气体,吸尘器,通孔,输出管,吸尘管,插设,半导体照明设备,化学气体沉积,本实用新型,二次污染,气体交换,外界空气,出气口,吸尘口,氧分子,包围,生长,保证
网站提醒和声明
免责声明：
本站为会员提供信息存储空间服务，由于更新时间等问题，可能存在信息偏差的情况，具体请以品牌企业官网信息为准。如有侵权、错误信息或任何问题，请及时联系我们，我们将在第一时间删除或更正。
版权声明>>
修改>>
申请删除>>
网页上相关信息的知识产权归网站方所有(包括但不限于文字、图片、图表、著作权、商标权、为用户提供的商业信息等)，非经许可不得抄袭或使用。本站不生产产品、不提供产品销售服务、不代理、不招商、不提供中介服务。本页面内容不代表本站支持投资购买的观点或意见，页面信息仅供参考和借鉴。
提交说明：
快速提交发布>>
查看提交帮助>>
注册登录>>
