著录信息
- 专利名称：噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法
- 专利类型：发明
- 申请号：CN200510061231.4
- 公开(公告)号：CN100503614C
- 申请日：20051021
- 公开(公告)日：20090624
- 申请人：浙江华海药业股份有限公司,中国科学院成都有机化学有限公司
- 发明人：王立新,唐毅,陈一,田芳
- 申请人地址：317024浙江省临海市汛桥镇利庄
- 申请人区域代码：CN331082
- 专利权人：浙江华海药业股份有限公司,中国科学院成都有机化学有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：C07D495/04
- 优先权：无
- 专利代理机构：杭州天正专利事务所有限公司
- 代理人：王兵;黄美娟
- 审查员：雷琴
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
光学异构体,四氢吡啶,消旋体,相转移催化剂,商业化生产,手性化合物,环保优势,压力条件,乙酸盐,拆分,碱解,手性,废弃物,生产成本,转化,环保
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