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著录信息

  • 专利名称:一种GaN基发光二极管芯片的制备方法
  • 专利类型:发明
  • 申请号:CN201410594339.9
  • 公开(公告)号:CN104300048B
  • 申请日:20141029
  • 公开(公告)日:20170215
  • 申请人:山东浪潮华光光电子股份有限公司
  • 发明人:刘岩,马玉玲,彭璐,徐现刚
  • 申请人地址:261061 山东省潍坊市高新区金马路9号
  • 申请人区域代码:CN370705
  • 专利权人:山东浪潮华光光电子股份有限公司
  • 洛迦诺分类:
  • IPC:H01L33/02
  • 优先权:
  • 专利代理机构:济南日新专利代理事务所 37224
  • 代理人:王书刚
  • 审查员:刘天飞
  • 国际申请:
  • 国际公开(公告):
  • 进入国家日期:
  • 分案申请:

关键词

光刻胶,去除,制备,干法刻蚀,芯片表面,刻蚀,残留,等离子体去除,生产周期,表面残留,表面生长,刻蚀气体,工艺流程,钝化层,面结构,芯片,制作,保证
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