著录信息
- 专利名称：一种晶片磨削废水COD臭氧降解装置
- 专利类型：实用新型
- 申请号：CN201620121534.4
- 公开(公告)号：CN205556200U
- 申请日：20160216
- 公开(公告)日：20160907
- 申请人：山东浪潮华光光电子股份有限公司
- 发明人：王强,任忠祥,李香芝,徐现刚
- 申请人地址：261061 山东省潍坊市高新区金马路9号
- 申请人区域代码：CN370705
- 专利权人：山东浪潮华光光电子股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：C02F1/78
- 优先权：无
- 专利代理机构：济南日新专利代理事务所 37224
- 代理人：王书刚
- 审查员：无
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
处理槽,废水,臭氧发生器,臭氧输入管,有机物,微孔曝气盘,氧化降解,臭氧,环境无污染,尾气排放管,污水排放管,臭氧降解,分散气泡,晶片磨削,污水进管,有效降解,废水COD,二氧化碳,磨削,气源,伸入,种晶,沉淀,过滤
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