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著录信息

  • 专利名称:一种真空灭弧室新型纵磁线圈构造
  • 专利类型:实用新型
  • 申请号:CN201220361369.1
  • 公开(公告)号:CN202712045U
  • 申请日:20120725
  • 公开(公告)日:20130130
  • 申请人:中国振华电子集团宇光电工有限公司(国营第七七一厂)
  • 发明人:张毅,康一,周吉冰,张梅,陈志会
  • 申请人地址:550018 贵州省贵阳市新添大道北段272号
  • 申请人区域代码:CN520103
  • 专利权人:中国振华电子集团宇光电工有限公司(国营第七七一厂)
  • 洛迦诺分类:
  • IPC:H01H33/664
  • 优先权:
  • 专利代理机构:北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362
  • 代理人:王娟;郭防
  • 审查员:
  • 国际申请:
  • 国际公开(公告):
  • 进入国家日期:
  • 分案申请:

关键词

触头,圆环,真空灭弧室,碗底,开口端表面,接触电阻,线圈构造,形变影响,装配过程,开口端,形变,侧壁,开槽,开断,头座,焊接,变形,坚固,旋转,接触
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