著录信息
- 专利名称：一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法
- 专利类型：发明
- 申请号：CN201410231799.5
- 公开(公告)号：CN104018128B
- 申请日：20140529
- 公开(公告)日：20160824
- 申请人：贵研铂业股份有限公司
- 发明人：王传军,谭志龙,张俊敏,闻明,毕珺,沈月,宋修庆,管伟明
- 申请人地址：650106 云南省昆明市高新技术开发区科技路988号(昆明贵金属研究所)
- 申请人区域代码：CN530102
- 专利权人：贵研铂业股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：C23C14/34,C23C14/14,C22C19/03,C22F1/10
- 优先权：无
- 专利代理机构：昆明今威专利商标代理有限公司 53115
- 代理人：赛晓刚
- 审查员：闫蕾
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
靶材,镍铂合金,制备,溅射靶材,透磁率,衍射峰,晶粒,平均晶粒,使用寿命,数值差别,溅射靶,均匀性,低铂,薄膜,测量
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