著录信息
- 专利名称:反射体和包括该反射体的发光装置
- 专利类型:发明
- 申请号:CN201180070562.8
- 公开(公告)号:CN103502358B
- 申请日:20111128
- 公开(公告)日:20160413
- 申请人:深圳市沃特新材料股份有限公司
- 发明人:滨田健司,李玧应,李振揆,吴永泽,金万钟
- 申请人地址:518052 广东省深圳市南山区南头关口二路智恒战略性新兴产业园10栋
- 申请人区域代码:CN440305
- 专利权人:深圳市沃特新材料股份有限公司
- 洛迦诺分类:无
- IPC:C08L77/12,C08J5/18,G02B5/08,G02F1/13357
- 优先权:KR10-2011-0043071 20110506
- 专利代理机构:深圳中一专利商标事务所 44237
- 代理人:张全文
- 审查员:涂赤枫
- 国际申请:PCT/KR2011/009103 20111128
- 国际公开(公告):WO2012/153900 20121115
- 进入国家日期:20131031
- 分案申请:无
关键词
全芳香族液晶聚酯,酰胺树脂,衍生,反射体,化合物,白色无机填料,芳香族二羧酸,氨基苯甲酸,羟基苯甲酸,羟基萘甲酸,发光装置,涉及
网站提醒和声明
免责声明:
本站为会员提供信息存储空间服务,由于更新时间等问题,可能存在信息偏差的情况,具体请以品牌企业官网信息为准。如有侵权、错误信息或任何问题,请及时联系我们,我们将在第一时间删除或更正。
版权声明>>
修改>>
申请删除>>
平台自有内容(文字、图片、界面、榜单、商标、LOGO 等)知识产权归本站所有,未经书面许可,禁止复制、转载、商用。本站不生产产品、不提供产品销售服务、不代理、不招商、不提供中介服务。本页面内容不代表本站支持投资购买的观点或意见,页面信息仅供参考和借鉴。
提交说明:
快速提交发布>>
查看提交帮助>>
注册登录>>