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著录信息

  • 专利名称:一种具有双气路结构的麻醉呼吸系统
  • 专利类型:实用新型
  • 申请号:CN201620784237.8
  • 公开(公告)号:CN206120895U
  • 申请日:20160724
  • 公开(公告)日:20170426
  • 申请人:北京航天长峰股份有限公司
  • 发明人:刘艳辉,梁淑艳,刁俊
  • 申请人地址:100854 北京市海淀区永定路甲51号航天数控大楼
  • 申请人区域代码:CN110108
  • 专利权人:北京航天长峰股份有限公司
  • 洛迦诺分类:
  • IPC:A61M16/01,A61M16/10
  • 优先权:
  • 专利代理机构:
  • 代理人:
  • 审查员:
  • 国际申请:
  • 国际公开(公告):
  • 进入国家日期:
  • 分案申请:

关键词

钠石灰,驱动气体,呼气,病人呼吸,气体入口,容积腔,吸气管路,新鲜气体,皮囊,供气,麻醉呼吸系统,本实用新型,呼气单向阀,气体容纳腔,双气路结构,吸气单向阀,驱动,管路连接,管路形成,回路连接,气体出口,曲折
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