著录信息
- 专利名称：突发式光模块用浅沟栅状背光探测器及其制作方法
- 专利类型：发明
- 申请号：CN201210573786.7
- 公开(公告)号：CN103050565B
- 申请日：20121226
- 公开(公告)日：20160504
- 申请人：华工科技产业股份有限公司
- 发明人：丁国庆,唐琦,胡长飞
- 申请人地址：430223 湖北省武汉市洪山区珞瑜路243号华工科技产业大厦A座12楼
- 申请人区域代码：CN420111
- 专利权人：华工科技产业股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：H01L31/109,H01L31/18
- 优先权：无
- 专利代理机构：北京汇泽知识产权代理有限公司 11228
- 代理人：朱振德
- 审查员：张玉萍
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
浅沟,金属电极,刻蚀区,背光探测器,电接触层,光吸收层,覆盖层,栅状,氢离子,非故意掺杂,高浓度掺杂,光脉冲信号,金属挡光层,氢离子注入,开启延迟,中等浓度,设有,掺杂的,电脉冲,高阻区,隔离区,光敏区,光模块,过渡层,缓冲层,面积和,突发式,高阻,减小,拖尾,一种,底部,下方,外围,包围,减少,有效
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