著录信息
- 专利名称：低反射型中性密度滤光片
- 专利类型：发明
- 申请号：CN201410618737.X
- 公开(公告)号：CN104297833B
- 申请日：20141106
- 公开(公告)日：20170118
- 申请人：沈阳仪表科学研究院有限公司
- 发明人：阴晓俊,高鹏,张勇喜,金秀,马敬,赵珑现
- 申请人地址：110043 辽宁省沈阳市大东区北海街242号
- 申请人区域代码：CN210104
- 专利权人：沈阳仪表科学研究院有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：G02B5/20,G02B1/115
- 优先权：无
- 专利代理机构：沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107
- 代理人：郭元艺
- 审查员：高迎春
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
金属层,膜堆,介质层,宽光谱,膜系层,透射,镀制,基底,中性密度滤光片,低反射型,光能衰减,光学元件,透射光谱,低反射,减反射,衰减,匹配,金属
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