著录信息
- 专利名称：一种真空灭弧室
- 专利类型：实用新型
- 申请号：CN201520901122.8
- 公开(公告)号：CN205122472U
- 申请日：20151112
- 公开(公告)日：20160330
- 申请人：成都旭光电子股份有限公司
- 发明人：关斌
- 申请人地址：610500 四川省成都市新都区新都镇新工大道318号
- 申请人区域代码：CN510114
- 专利权人：成都旭光电子股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：H01H33/664
- 优先权：无
- 专利代理机构：成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222
- 代理人：李安霞
- 审查员：无
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
真空灭弧室,陶瓷壳,壳体,焊料,波纹管屏蔽罩,静端封接环,动导电杆,击穿现象,金属蒸汽,静导电杆,壳体内壁,两端开口,陶瓷壳体,性能降低,中间壁厚,波纹管,导向套,动盖板,封接环,金属环,静触头,静盖板,壳体上,屏蔽罩,圆筒状,壁厚,动端,封接,两段,钎焊,一种,沉积,失效,大于,实用,减轻,公开,减少,有效,生产
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