著录信息
- 专利名称：由R或S-1-取代基-3-氨基吡咯烷制备其外消旋体的方法
- 专利类型：发明
- 申请号：CN200810136263.X
- 公开(公告)号：CN101407487B
- 申请日：20081119
- 公开(公告)日：20110406
- 申请人：苏州雅本化学股份有限公司
- 发明人：阙利民,毛海峰,蔡彤
- 申请人地址：215433 江苏省太仓市太仓港港口开发区石化区东方东路18号
- 申请人区域代码：CN320585
- 专利权人：苏州雅本化学股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：C07D207/14
- 优先权：无
- 专利代理机构：苏州创元专利商标事务所有限公司 32103
- 代理人：孙仿卫
- 审查员：石继仙
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
吡咯烷,酮肟,催化氧化反应,工业化大生产,氧化剂,催化氢化,催化氧化,独特优势,过氧化氢,烷氧羰基,芳烷基,芳烷氧,外消旋,消旋体,芳基,芳氧,收率,还原
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