著录信息
- 专利名称:晶体冶炼炉设备高精度位移检测仪表
- 专利类型:实用新型
- 申请号:CN201620792769.6
- 公开(公告)号:CN205808338U
- 申请日:20160726
- 公开(公告)日:20161214
- 申请人:黑龙江特通电气股份有限公司
- 发明人:李国勇
- 申请人地址:150029 黑龙江省哈尔滨市开发区巨宝一路588号企业加速器7号楼
- 申请人区域代码:CN230109
- 专利权人:黑龙江特通电气股份有限公司
- 洛迦诺分类:无
- IPC:G01B7/02
- 优先权:无
- 专利代理机构:哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109
- 代理人:胡树发
- 审查员:无
- 国际申请:无
- 国际公开(公告):无
- 进入国家日期:无
- 分案申请:无
关键词
微处理器,冶炼炉,高精度位移检测,本实用新型,输入端连接,键盘信号,报警信号输出端,报警信号输入端,模拟信号输入端,上位机控制系统,数字信号输出端,提拉法生长晶体,位移数字信号,高精度检测,位移传感器,蓝宝石,报警电路,晶体生长,数据交互,外设按键,位移信号,电子尺,电阻型,输出端,提拉,仪表,检测
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