著录信息
- 专利名称：带有抽真空系统的平板式PECVD工艺腔
- 专利类型：实用新型
- 申请号：CN201720040750.0
- 公开(公告)号：CN206477025U
- 申请日：20170113
- 公开(公告)日：20170908
- 申请人：浙江晶盛机电股份有限公司
- 发明人：傅林坚,石刚,洪昀,吴威,高振波,王伟星,祝广辉
- 申请人地址：312300 浙江省绍兴市上虞区通江西路218号
- 申请人区域代码：CN330604
- 专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：C23C16/44
- 优先权：无
- 专利代理机构：杭州中成专利事务所有限公司 33212
- 代理人：周世骏
- 审查员：无
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
真空泵,竖管,本实用新型,四通接头,真空管道,抽气口,工艺腔,过滤网,横管,三通,晶硅太阳能电池,抽真空系统,底部边缘,颗粒粉尘,生产设备,生产效率,使用寿命,水平接口,向上接口,向下接口,抽真空,可拆卸,平板式,相接处,真空室,中空状,堵头,镀膜,装设,拦截
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