著录信息
- 专利名称：一种匀场及消相干装置
- 专利类型：发明
- 申请号：CN201510645640.2
- 公开(公告)号：CN105116556B
- 申请日：20151008
- 公开(公告)日：20171027
- 申请人：杭州中科极光科技有限公司
- 发明人：王栋栋,张文平,孙敏远,毕勇,刘新厚,王东周,高伟男
- 申请人地址：310018 浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道21号大街600号2幢107室
- 申请人区域代码：CN330104
- 专利权人：杭州中科极光科技有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：G02B27/09,G02B27/48
- 优先权：无
- 专利代理机构：北京正理专利代理有限公司 11257
- 代理人：张雪梅
- 审查员：吴莉芳
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
匀光片,支架,环支架,内环,匀场,电磁铁,弹性连接件,平行光束,激光束,永磁体,激光,消相干装置,大小变化,固定设置,间隔均匀,振动运动,弹性力,前透镜,吸附力,相干,光强,匀化,扰乱
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