著录信息
- 专利名称：一种研磨抛光盘的循环冷却结构
- 专利类型：发明
- 申请号：CN201410335256.8
- 公开(公告)号：CN104084885B
- 申请日：20140715
- 公开(公告)日：20160413
- 申请人：宇环数控机床股份有限公司
- 发明人：许亮,彭关清,陈永福,裴化君,杜群波
- 申请人地址：410323 湖南省长沙市浏阳制造产业基地纬二路
- 申请人区域代码：CN430181
- 专利权人：宇环数控机床股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：B24B55/02,B24B37/34
- 优先权：无
- 专利代理机构：长沙新裕知识产权代理有限公司 43210
- 代理人：刘熙
- 审查员：温邻君
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
中心旋转轴,出水道,进水道,旋转轴,空套,设有,研磨抛光盘,进水腔,连通,循环冷却结构,出水腔与,互不连通,精确控制,抛光精度,旋转接头,研磨抛光,主动循环,研磨,出水腔,间隙套,抛光,一种,冷却,连接,加工,公开,适应,产生
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