著录信息
- 专利名称：一种曲面抛光机
- 专利类型：实用新型
- 申请号：CN201720083931.1
- 公开(公告)号：CN206464956U
- 申请日：20170123
- 公开(公告)日：20170905
- 申请人：宇环数控机床股份有限公司
- 发明人：许亮,唐湘平,尹荆州,罗铁
- 申请人地址：410323 湖南省长沙市浏阳制造产业基地纬二路
- 申请人区域代码：CN430181
- 专利权人：宇环数控机床股份有限公司
- 洛迦诺分类：无
- IPC：B24B29/00,B24B29/02,B24B55/04,B24B57/00,B24B47/12,B24B47/00,B24B27/00
- 优先权：无
- 专利代理机构：长沙新裕知识产权代理有限公司 43210
- 代理人：刘熙
- 审查员：无
- 国际申请：无
- 国际公开(公告)：无
- 进入国家日期：无
- 分案申请：无
关键词
动力系统,上盘组件,耗材,下盘,本实用新型,回转轴承,立柱部件,支撑组件,工件盘,公转盘,上盘,加工,伺服进给系统,伺服驱动系统,驱动,公转运动,加工效率,曲面抛光,上下运动,实时补偿,数控系统,自转运动,均匀化,良品率,抛光机,抛光盘,下工件,自转,使用率,立柱,毛刷,转动,支撑,保证
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