随着改革开放的深入,中国在大部分领域都逐渐追上了西方国家的步伐,这值得我们骄傲。然而有一个领域一直是国人的痛点,那就是芯片制造行业,因为种种原因,中国芯片领域的发展艰难无比,甚至可以说是毫无建树了。但罗马不是一天建成的,要解决芯片制造难题,可以先从芯片制造中的重要材料做起。
2021年7月,江苏南大光电材料股份有限公司在官网发布最新消息,消息称其公司旗下生产的ArF光刻胶获得了国外客户的一批订单,能够在光刻胶领域获得国外订单,足以说明其产品已经达到国际标准。
首先科普一下光刻胶是什么。光刻胶是指在光刻前涂在硅晶圆上的材料,它是制作芯片过程中的重要材料,按照工艺水平可以分为g线、i线、KrF、ArF、EUV合计5种类型。
而ArF光刻胶一般用于130nm-14nm,最多可以用于7nm DUV工艺。而在ArF光刻胶的市场,国内ArF的自给率仅为5%左右,这个领域同样被日本和美国所垄断,而此次国内ArF光刻胶的突破意味着中国在ArF光刻胶领域正式摆脱了美日的钳制。
芯片领域我们仍然落后,但没有什么是一定的。此次南大光电在光刻胶市场上的突破,可以说是为中国半导体产业的发展奠定了坚实的基础,就这样一步步的走下去,中国也必将突破芯片领域的技术封锁。
江苏南大光电材料股份有限公司是一家专业从事高纯电子材料研发、生产和销售的高新技术企业,公司于2012年8月7日在深圳证券交易所创业板挂牌上市(股票代码300346)。
凭借30多年来的技术积累优势,公司先后攻克了国家863计划MO源全系列产品产业化、国家“02—专项”高纯电子气体(砷烷、磷烷)研发与产业化、ALD/CVD前驱体产业化等多个困扰我国数十年的项目,填补了多项国内空白。2017年,南大光电承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的193nm光刻胶材料的研发与产业化项目。
通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化,南大光电形成了MO源、电子特气、ALD/CVD前驱体材料和光刻胶四大业务板块。凭借自身过硬的实力和良好的服务,公司与国内外重要的集成电路、LED优秀企业形成良好的合作关系。产品在LED、IC领域客户中广受好评。