国产ArF光刻胶突破 中国企业ArF光刻胶产品正式出口国外

2021年7月，江苏南大光电材料股份有限公司在官网发布最新消息，消息称其公司旗下生产的ArF光刻胶获得了国外客户的一批订单，能够在光刻胶领域获得国外订单，足以说明其产品已经达到国际标准。

首先科普一下光刻胶是什么。光刻胶是指在光刻前涂在硅晶圆上的材料，它是制作芯片过程中的重要材料，按照工艺水平可以分为g线、i线、KrF、ArF、EUV合计5种类型。

而ArF光刻胶一般用于130nm-14nm，最多可以用于7nm DUV工艺。而在ArF光刻胶的市场，国内ArF的自给率仅为5%左右，这个领域同样被日本和美国所垄断，而此次国内ArF光刻胶的突破意味着中国在ArF光刻胶领域正式摆脱了美日的钳制。

芯片领域我们仍然落后，但没有什么是一定的。此次南大光电在光刻胶市场上的突破，可以说是为中国半导体产业的发展奠定了坚实的基础，就这样一步步的走下去，中国也必将突破芯片领域的技术封锁。