硅片清洗设备维修方法有哪些 硅片清洗设备怎么保养

一、硅片清洗设备维修方法有哪些

1、换能器损坏：

分析：可能硅片清洗设备因长时间处于开机使用状态，温度会逐渐上升导致胶体融化换能器脱落或换能器陶瓷部分断裂。

检测和解决：用摇表测量换能器的绝缘强度，绝缘强度在200MΩ以下已无法使用，须换新的换能器。

换能器的内部陶瓷也会由于长期使用出现断裂，使其不能正常工作。

2、硅片清洗设备的保险损坏：

在开机后如发现无电源显示，无动作，首先要看电源座内保险是否损坏。

分析：有可能是用户接地线与火线或零线混用，并没有接地（本机地线是与机器外壳相连接），还有可能是硅片清洗设备短路，元器件老化出现短路现象，导致保险损坏。

检测和解决：拿出保险观看，有无断裂，用万用表通断档测量是否断开，更换新器件。

3、硅片清洗设备的功率管损坏：

分析：主板上的功率管会因为超声波清洗机长时间不间断使用或清洗液体太少长时间使用，使功率管出现短路情况。

检测和解决：当功率管在主板上连接式，用万用表测量功率管两侧管脚的阻值，正常情况下应在22Ω左右。拿下功率管后（与主板断开连接），测量其各个管脚间应是不通的。

二、硅片清洗设备怎么保养

硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的，而清洗后硅片表面的各种性能在一定程度上又由清洗设备本身决定，因此，对硅片清洗设备的日常监控和维护就尤为重要。

1、进行日常的生产时，首先需准备少量洁净的硅片（如10片），每天在进行正常的硅片清洗前，对该10个桂片进行清洗，且在清洗前后对该硅片进行表面颗粒的检测，然后对测试结果进行分析。

如果发现清洗后硅片表面的颗粒数跟金属沾污较清洗前减少或无明显变化，则表面清洗设备工作正常，可以进行正常的硅片清洗；如果发现清洗后硅片表面颗粒数跟金属沾污较清洗前明显增加，则表明清洗机工作异常，需进行相应的维护。

针对此工作也可以根据生产的具体情况对其即进行SPC控制，即：颗粒去除数=清洗后颗粒数-清洗前颗粒数

2、硅片在清洗过程中，如发现硅片表面颗粒跟金属沾污超标，则需进行如下处理：

（1）将各槽中原液排干，用DI水将槽子冲洗一次，然后将槽中水排尽。

（2）加入少许（lgallon）DI水，然后加入lgal-lonH2O2，再加入少许DI水，然后加工入lgallonNH4OH，再加DI水至槽满。如果是工艺槽，则让混合液循环2h，否则静置2h。

（3）将槽中液排尽，用DI水再次冲洗槽子一次，将槽液排尽。

（4）重新对清洗设备进行测试。