靶材什么牌子好 靶材有哪些牌子

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靶材哪个牌子好?
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靶材什么牌子好 靶材有哪些牌子 靶材什么牌子的好 PREFERRED BRAND
  • JX日矿金属日矿金属株式会社
  • 发源地:日本
JX日矿金属始于1905年日本,全球极具规模的半导体溅射靶材厂商,专注于有色金属资源开采、机能材料、薄膜材料、钽、铌制品的制造、销售及有色金属回收再利用。公司作为有色金属行业的领先企业,提供铜、稀有金属、贵金属等有色金属资源及先进材料。更多>>
  • Honeywell霍尼韦尔霍尼韦尔(中国)有限公司
  • 发源地:美国 注册资本:7160万美元
霍尼韦尔始创于1885年,1935年进入中国,旗下四大业务集团均已落户中国,在国内数十个城市拥有多家独资公司和合资企业。霍尼韦尔旗下的安全与生产力解决方案集团为全球超过5亿作业人员提供移动工业电脑、语音软件和工作流、条码扫描仪、打印解决方案、气体检测技术和个人...更多>>
  • TOSOH东曹东曹(中国)投资有限公司
  • 发源地:日本 注册资本:5536.57万美元
TOSOH东曹株式会社创立于1935年,日本知名的大型石油化工综合企业集团,以通用化工产品和功能产品为两大核心的发展战略,产品涉及石油化工、无机化工、精细化工、氯碱产品、电子材料、生命科学等领域。于2004年在中国设厂,目前在全球共设有超百多家分支机构。更多>>
  • Praxair普莱克斯表面技术林德集团
  • 发源地:德国
普莱克斯公司旗下专业从事表面技术研发、推广及应用的子公司,提供热喷涂设备、材料及涂层加工等全方位的热喷涂服务。产品包括等离子设备、超音速火焰喷涂(HVOF)设备、电弧喷涂设备及品种齐全的喷涂材料等,广泛应用于航空航天、石油、化工、钢铁、印刷机械、电站等工业领域...更多>>
  • 江丰电子KFMI宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 发源地:宁波市 注册资本:26555.56万元
江丰电子公司创建于2005年,专业从事超高纯金属材料及溅射靶材研发、生产的高新技术企业,主要应用于超大规模集成电路制造领域。于2017年6月在深交所成功上市(股票代码300666)。目前,公司已拥有覆盖AI、Ti、Ta、Cu等多种金属材料及溅射靶材全工艺流程的...更多>>
  • ACETRON福建阿石创新材料股份有限公司
  • 发源地:福州市 注册资本:15285.25万元
阿石创成立于2002年,是集高档薄膜材料生产、研发、销售于一体的具有自主知识产权的高新技术企业,拥有薄膜材料,可分为溅射靶材、蒸镀材料与镀膜配件三大产品线。公司建有专业化的大型生产基地,是国内薄膜材料行业设备先进、技术水平高、产品系列多元化的企业之一。更多>>
  • 有研亿金有研亿金新材料有限公司
  • 发源地:北京市 注册资本:84600万元
有研亿金成立于2000年,隶属于有研股份公司,主要研发、生产、销售微电子光电子用薄膜新材料、贵金属材料及制品。国内规模大、门类齐全、技术能力高的高纯金属溅射靶材制造企业,是国内少数具备从超高纯原材料到溅射靶材、蒸发膜材垂直一体化研发和生产的产业化平台。更多>>
  • 晶联光电广西晶联光电材料有限责任公司
  • 发源地:柳州市 注册资本:8453.57万元
晶联光电是隆华科技集团旗下一家专业从事高品质氧化铟锡(ITO)靶材研发、生产和销售的高新技术企业。公司拥有多项知识产权和专利成果,是国内较早实现批量生产高世代TFT用ITO靶材的企业,产品型号覆盖全世代TFT显示面板产线,并远销欧美、新加坡、日本、韩国等地。更多>>
  • 四丰电子丰联科光电(洛阳)股份有限公司
  • 发源地:洛阳市 注册资本:11138.97万元
四丰电子创建于2001年,是隆华科技集团旗下全资子公司,是一家专业从事电子信息靶材及超高温特种功能材料等产品研发、生产及销售的高新技术企业。主要产品有钼及钼合金靶、铜靶、钛靶、钨靶及超高温特种功能材料,目前是国产高端金属靶材的主力供应商。更多>>
  • ULVAC爱发科电子材料(苏州)有限公司
  • 发源地:日本 注册资本:2439万美元
隶属于日本爱发科株式会社,致力于提供液晶、OLED、半导体等产品所用的镀膜材料及售后服务,涵盖高纯度Cu、AI、Mo、Ti溅射靶材、蒸发材料等产品。公司拥有多项行业相关专利,是镀膜设备、工艺优化、镀膜材料、维护保养系列解决方案提供商。更多>>
三井金属
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住友化学
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人气靶材品牌 靶材品牌投票榜 靶材投票榜/关注度 BRAND POLL
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1、根据不同材质划分

(1)金属靶材

镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、铬靶Cr、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铝靶Al、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶ZrAl、钛铝靶TiAl、锆靶Zr、铝硅靶AlSi、硅靶Si、铜靶Cu、钽靶Ta、锗靶Ge、银靶Ag、钴靶Co、金靶Au、钆靶Gd、镧靶La、钇靶Y、铈靶Ce、不锈钢靶、镍铬靶NiCr、铪靶Hf、钼靶Mo、铁镍靶FeNi、钨靶、W等。

(2)陶瓷靶材

ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。

(3)合金靶材

铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等。

2、根据不同应用方向划分

(1)半导体关联靶材

电极、布线薄膜:铝靶材,铜靶材,金靶材,银靶材,钯靶材,铂靶材,铝硅合金靶材,铝硅铜合金靶材等。

储存器电极薄膜:钼靶材,钨靶材,钛靶材等。

粘附薄膜:钨靶材,钛靶材等。

电容器绝缘膜薄膜:锆钛酸铅靶材等。

(2)磁记录靶材

垂直磁记录薄膜:钴铬合金靶材等。

硬盘用薄膜:钴铬钽合金靶材,钴铬铂合金靶材,钴铬钽铂合金靶材等。

薄膜磁头:钴钽铬合金靶材,钴铬锆合金靶材等。

人工晶体薄膜:钴铂合金靶材,钴钯合金靶材等。

(3)光记录靶材

相变光盘记录薄膜:硒化碲靶材,硒化锑靶材,锗锑碲合金靶材,锗碲合金靶材等。

磁光盘记录薄膜:镝铁钴合金靶材,铽镝铁合金靶材,铽铁钴合金靶材,氧化铝靶材,氧化镁靶材,氮化硅靶材等。

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