2024年靶材十大品牌

十大靶材品牌榜中榜,金属靶材-溅射靶材-ITO靶材厂排名,靶材品牌有哪些
靶材什么牌子好?经专业评测的2024年靶材十大品牌名单发布啦!居前十的有:JX日矿金属、Honeywell霍尼韦尔、TOSOH东曹、Praxair普莱克斯表面技术、江丰电子KFMI、ACETRON、有研亿金、晶联光电、四丰电子、ULVAC等,上榜靶材十大品牌榜单和著名靶材品牌名单的是口碑好或知名度高、有实力的品牌,排名不分先后,仅供借鉴参考,想知道什么牌子的靶材好?您可以多比较,选择自己满意的!靶材品牌主要属于商标分类的第6类。榜单更新时间:2024年09月20日(每月更新)
十大品牌榜
投票榜
口碑点赞榜
分享榜
人气榜
实力榜
  • NO.1
    JX日矿金属
    日矿金属株式会社
    品牌指数: 88.6
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    成立时间1905年
    百年品牌
    品牌点赞430+
    关注度2854+
    品牌得票10万+
    日本
    JX日矿金属始于1905年日本,全球极具规模的半导体溅射靶材厂商,专注于有色金属资源开采、机能材料、薄膜材料、钽、铌制品的制造、销售及有色金属回收再利用。公司作为有色金属行业的领先企业,提供铜、稀有金属、贵金属等有色金属资源及先进材料。查看更多>>
  • NO.2
    Honeywell霍尼韦尔
    霍尼韦尔(中国)有限公司
    品牌指数: 87.7
    财富世界500强
    标准起草单位
    61个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    成立时间1885年
    百年品牌
    享誉全球
    注册资本5颗星
    品牌点赞10万+
    关注度57万+
    品牌得票783万+
    美国
    霍尼韦尔始创于1885年,1935年进入中国,旗下四大业务集团均已落户中国,在国内数十个城市拥有多家独资公司和合资企业。霍尼韦尔旗下的安全与生产力解决方案集团为全球超过5亿作业人员提供移动工业电脑、语音软件和工作流、条码扫描仪、打印解决方案、气体检测技术和...查看更多>>
  • NO.3
    TOSOH东曹
    东曹(中国)投资有限公司
    品牌指数: 86.3
    5个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    成立时间1935年
    老牌品牌
    注册资本4颗星
    品牌点赞657+
    关注度3403+
    品牌得票72万+
    日本
    TOSOH东曹株式会社创立于1935年,日本知名的大型石油化工综合企业集团,以通用化工产品和功能产品为两大核心的发展战略,产品涉及石油化工、无机化工、精细化工、氯碱产品、电子材料、生命科学等领域。于2004年在中国设厂,目前在全球共设有超百多家分支机构。查看更多>>
  • NO.4
    品牌指数: 84.9
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    品牌点赞225+
    关注度1062+
    品牌得票9万+
    德国
    普莱克斯公司旗下专业从事表面技术研发、推广及应用的子公司,提供热喷涂设备、材料及涂层加工等全方位的热喷涂服务。产品包括等离子设备、超音速火焰喷涂(HVOF)设备、电弧喷涂设备及品种齐全的喷涂材料等,广泛应用于航空航天、石油、化工、钢铁、印刷机械、电站等工业...查看更多>>
  • NO.5
    江丰电子KFMI
    宁波江丰电子材料股份有限公司
    品牌指数: 83.7
    深交所上市公司
    制造业单项冠军
    国家企业技术中心
    标准起草单位
    高新技术企业
    瞪羚企业
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A
    成立时间2005年
    资深品牌
    员工2512+人
    注册资本4颗星
    江丰电子公司创建于2005年,专业从事超高纯金属材料及溅射靶材研发、生产的高新技术企业,主要应用于超大规模集成电路制造领域。于2017年6月在深交所成功上市(股票代码300666)。目前,公司已拥有覆盖AI、Ti、Ta、Cu等多种金属材料及溅射靶材全工艺流...查看更多>>
  • NO.6
    ACETRON
    福建阿石创新材料股份有限公司
    品牌指数: 82.4
    深交所上市公司
    专精特新小巨人
    高新技术企业
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A
    成立时间2002年
    资深品牌
    员工462+人
    注册资本4颗星
    品牌点赞215+
    关注度963+
    品牌得票9万+
    阿石创成立于2002年,是集高档薄膜材料生产、研发、销售于一体的具有自主知识产权的高新技术企业,拥有薄膜材料,可分为溅射靶材、蒸镀材料与镀膜配件三大产品线。公司建有专业化的大型生产基地,是国内薄膜材料行业设备先进、技术水平高、产品系列多元化的企业之一。查看更多>>
  • NO.7
    有研亿金
    有研亿金新材料有限公司
    品牌指数: 81.3
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A
    成立时间2000年
    资深品牌
    注册资本5颗星
    品牌点赞160+
    关注度905+
    品牌得票9万+
    北京市
    有研亿金成立于2000年,隶属于有研股份公司,主要研发、生产、销售微电子光电子用薄膜新材料、贵金属材料及制品。国内规模大、门类齐全、技术能力高的高纯金属溅射靶材制造企业,是国内少数具备从超高纯原材料到溅射靶材、蒸发膜材垂直一体化研发和生产的产业化平台。查看更多>>
  • NO.8
    晶联光电
    广西晶联光电材料有限责任公司
    品牌指数: 80.2
    专精特新小巨人
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A
    成立时间2007年
    资深品牌
    注册资本4颗星
    品牌点赞143+
    关注度718+
    品牌得票9万+
    广西柳州市
    晶联光电是隆华科技集团旗下一家专业从事高品质氧化铟锡(ITO)靶材研发、生产和销售的高新技术企业。公司拥有多项知识产权和专利成果,是国内较早实现批量生产高世代TFT用ITO靶材的企业,产品型号覆盖全世代TFT显示面板产线,并远销欧美、新加坡、日本、韩国等地...查看更多>>
  • NO.9
    四丰电子
    丰联科光电(洛阳)股份有限公司
    品牌指数: 79
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评B+++
    成立时间2001年
    资深品牌
    注册资本4颗星
    品牌点赞135+
    关注度680+
    品牌得票8万+
    河南省洛阳市
    四丰电子创建于2001年,是隆华科技集团旗下全资子公司,是一家专业从事电子信息靶材及超高温特种功能材料等产品研发、生产及销售的高新技术企业。主要产品有钼及钼合金靶、铜靶、钛靶、钨靶及超高温特种功能材料,目前是国产高端金属靶材的主力供应商。查看更多>>
  • NO.10
    ULVAC
    爱发科电子材料(苏州)有限公司
    品牌指数: 77.7
    专精特新小巨人
    高新技术企业
    科技型中小企业
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评B+++
    成立时间2009年
    成长品牌
    注册资本4颗星
    品牌点赞172+
    关注度5970+
    品牌得票8万+
    日本
    隶属于日本爱发科株式会社,致力于提供液晶、OLED、半导体等产品所用的镀膜材料及售后服务,涵盖高纯度Cu、AI、Mo、Ti溅射靶材、蒸发材料等产品。公司拥有多项行业相关专利,是镀膜设备、工艺优化、镀膜材料、维护保养系列解决方案提供商。查看更多>>
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品牌榜:2024年靶材十大品牌排行榜 投票结果公布【新】
2024年最新的靶材品牌榜发布了,此次靶材品牌榜共收集了靶材行业超过30个品牌信息及1810199个网友的投票做为参考,榜单由CN10排排榜技术研究部门和CNPP品牌数据研究部门提供数据支持,综合分析了靶材行业品牌的知名度、员工数量、企业资产规模与经营情况等各项实力数据经人工智能和品牌研究员专业测评而得出,仅供方便用户找到好的品牌参考使用,具体榜单请按最新更新数据为准。
多弧离子反应镀膜设备可镀色彩 各种靶材对应的PVD镀膜颜色
多弧离子镀技术是离子镀技术的一种改进方法,是采用电弧放电的方法,在固体的阴极靶材上直接蒸发金属,蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子,从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。下面来了解下多弧离子反应镀膜设备可镀色彩,各种靶材对应的PVD镀膜颜色。
靶材 塑料膜
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溅射靶材是否属于稀缺资源 贵金属靶材可以回收再利用吗
靶材就是真空电镀材料炉里的靶,是电镀材料的一种,主要应用于半导体器件、存储用的硬盘、平面显示器等的布线和制备薄膜用的贵金属溅射靶材材料。靶材有金属类、合金类、氧化物类等等,那么溅射靶材是否属于稀缺资源?贵金属靶材可以回收再利用吗?下面来了解下。
金属靶材是干什么的 常见的金属靶材有哪些
靶材就是用于物理镀膜中的溅镀,靶材种类比较多,有金属类、合金类、氧化物类等等。金属靶材应用主要包括平板显示器、半导体、太阳能电池、记录媒体等领域。常见金属靶材的种类有镁Mg、锰Mn、铁Fe、钴CO、镍Ni、铜Cu、锌Zn、铅Pd、锡Sn、铝AL等。
靶材黑化中毒的原因及现象 靶材中毒怎么解决
靶材在使用过程中,其表面逐渐会产生一种黑色颗粒状物质,这就是靶材中毒。靶材中毒的主要原因是介质的合成速度大于溅射产率,导致导体靶材失去导电能力。如果要消除目标中毒,应使用中频电源或射频电源代替直流电源。减少反应气体的吸入量,增加溅射功率。
ITO溅射靶材的制作方法 ITO溅射靶材生产难点
ITO靶材是一种贵金属材料,是在高温气氛烧结形成的黑灰色陶瓷半导体。ITO靶材主要有四种成型方法,分别是真空热压法、热等静压法、常压烧结法、冷等静压法。下面就来了解下ITO溅射靶材的制作方法以及ITO溅射靶材生产难点。
ITO靶材是什么材料 ITO靶材应用领域
ITO靶材是什么材料?ITO靶材是溅射靶材中的一种,全称为氧化铟锡靶材,是氧化铟和氧化锡的混合物。在所有其他透明导电氧化物中,氧化铟锡因其卓越的导电性、光学透明度和高稳定性而被广泛选择。在光电子行业,它主要用于覆盖半导体传感器布线,并制造各种光电设备和组件,如液晶显示器、有机发光二极管、等离子显示器和触摸屏。
靶材 塑料膜
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溅射靶材是什么 溅射靶材工作原理
溅射靶材是什么?溅射靶材是目标材料,是一种用溅射沉积或薄膜沉积技术制造薄膜的材料。溅射靶材可用于微电子领域、显示器、存储用及高温耐蚀、耐磨材料、装饰用品等行业。溅射靶材工作原理是什么?下面一起来了解下。
靶材 塑料膜
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靶材的分类有哪些 靶材的性能和指标
靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料,是制造芯片过程中不可缺少的材料。根据不同材质靶材可划分为金属靶材,陶瓷靶材,合金靶材。根据不同应用方向靶材可划分为半导体关联靶材、磁记录靶材、光记录靶材。下面来了解下靶材的性能和指标。
靶材是什么材料 靶材的用途
靶材是什么材料?靶材是制备薄膜的主要材料之一,是一种具有高附加价值的特种电子材料,主要使用在微电子,显示器,存储器以及光学镀膜等产业上,用以溅射用于尖端技术的各种薄膜材料。下面来了解下靶材的用途知识。
靶材 塑料膜
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靶材的用途

一、靶材是什么材料

靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

二、靶材的用途

1、用于显示器上

靶材目前被普遍应用于平面显示器(FPD)上。近年来,平面显示器在市场上的应用率逐年增高,同时也带动了ITO靶材的技术与市场需求。ITO靶材有两种,一种是采用铟锡合金靶材,另外一种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结。

2、用于微电子领域

靶材也被应用于半导体产业,相对来说半导体产业对于靶材溅射薄膜的品质要求是比较苛刻的。现在12英寸(300衄口)的硅晶片也被制作出来,但是互连线的宽度却在减小。目前硅片制造商对于靶材的要求都是大尺寸、高纯度、低偏析以及细晶粒等,对其品质要求比较高,这就要求靶材需要具有更好的微观结构。

3、用于存储技术上

存储技术行业对于靶材的需求量很大,高密度、大容量硬盘的发展,离不开大量的巨磁阻薄膜材料,CoF~Cu多层复合膜是如今应用比较广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的TbFeCo合金靶材还在进一步发展,用它制造出来的磁光盘有着使用寿命长、存储容量大以及可反复无接触擦写的特点。

三、靶材的分类有哪些

1、根据不同材质划分

(1)金属靶材

镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、铬靶Cr、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铝靶Al、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶ZrAl、钛铝靶TiAl、锆靶Zr、铝硅靶AlSi、硅靶Si、铜靶Cu、钽靶Ta、锗靶Ge、银靶Ag、钴靶Co、金靶Au、钆靶Gd、镧靶La、钇靶Y、铈靶Ce、不锈钢靶、镍铬靶NiCr、铪靶Hf、钼靶Mo、铁镍靶FeNi、钨靶、W等。

(2)陶瓷靶材

ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。

(3)合金靶材

铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等。

2、根据不同应用方向划分

(1)半导体关联靶材

电极、布线薄膜:铝靶材,铜靶材,金靶材,银靶材,钯靶材,铂靶材,铝硅合金靶材,铝硅铜合金靶材等。

储存器电极薄膜:钼靶材,钨靶材,钛靶材等。

粘附薄膜:钨靶材,钛靶材等。

电容器绝缘膜薄膜:锆钛酸铅靶材等。

(2)磁记录靶材

垂直磁记录薄膜:钴铬合金靶材等。

硬盘用薄膜:钴铬钽合金靶材,钴铬铂合金靶材,钴铬钽铂合金靶材等。

薄膜磁头:钴钽铬合金靶材,钴铬锆合金靶材等。

人工晶体薄膜:钴铂合金靶材,钴钯合金靶材等。

(3)光记录靶材

相变光盘记录薄膜:硒化碲靶材,硒化锑靶材,锗锑碲合金靶材,锗碲合金靶材等。

磁光盘记录薄膜:镝铁钴合金靶材,铽镝铁合金靶材,铽铁钴合金靶材,氧化铝靶材,氧化镁靶材,氮化硅靶材等。

四、靶材的性能和指标

靶材制约着溅镀薄膜的物理,力学性能,影响镀膜质量,因而要求靶材的制备应满足以下要求:

1、纯度:要求杂质含量低纯度高,靶材的纯度影响薄膜的均匀性,以纯Al靶为例,纯度越高,溅射Al膜的耐蚀性及电学、光学性能越好。不过不同用途的靶材对纯度要求也不同,一般工业用靶材纯度要求不高,但就半导体、显示器件等领域用靶材对纯度要求是十分严格的,磁性薄膜用靶材对纯度的要求一般为99.9%以上,ITO中的氧化铟以及氧化锡的纯度则要求不低于99.99%。

2、杂质含量:靶材作为溅射中的阴极源,固体中的杂质和气孔中的O2和H2O是沉积薄膜的主要污染源,不同用途的靶材对单个杂质含量的要求也不同,如:半导体电极布线用的W,Mo,Ti等靶材对U,Th等放射性元素的含量要求低于3*10-9,光盘反射膜用的Al合金靶材则要求O2的含量低于2*10-4。

3、高致密度:为了减少靶材中的气孔,提高薄膜的性能一般要求靶材具有较高的致密度,靶材的致密度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等,还影响溅射薄膜的电学和光学性能。致密性越好,溅射膜粒子的密度越低,放电现象越弱。高致密度靶材具有导电、导热性好,强度高等优点,使用这种靶材镀膜,溅射功率小,成膜速率高,薄膜不易开裂,靶材的使用寿命长,且溅镀薄膜的电阻率低,透光率高。靶材的致密度主要取决于制备工艺。一般而言,铸造靶材的致密度高而烧结靶材的致密度相对较低,因此提高靶材的致密度是烧结制备靶材的技术关键之一。

4、成分与组织结构均匀,靶材成分均匀是镀膜质量稳定的重要保证,尤其是对于复相结构的合金靶材和混合靶材。如ITO,为了保证膜质量,要求靶中In2O3-SnO2组成均匀,都为93:7或91:9(分子比)。

5、晶粒尺寸细小,靶材的晶粒尺寸越细小,溅镀薄膜的厚度分布越均匀,溅射速率越快。