一、中国光刻机现在多少纳米
2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺。
之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA800/10W光刻机，这是一台国产浸没式DUV 光刻机，可实现单次曝光28nm节点。所以网络里一直流传着这个说法。不过对于此消息，有人说是真的，有人说是假的。让人很是迷糊。
上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机。只是是否通过验收，到底何时能交付，目前未知。
28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平，严格来说，这个真的算不上高水平，它的前面还有14、7、5、3、2，甚至是1nm。
但是28纳米是成熟工艺，生产成本低，只要不追求极致性能的情况下，这种制程的芯片，其性能也够用的，用来生产我们日常生活中的电子设备是没有问题的，例如电视、电视盒子、音响、电梯、空调、微波炉、冰箱、汽车等等。
另外，根据研究机构IC Insights发布的《2020-2024年全球晶圆产能》报告，预计到2024年，半导体制程格局将出现10nm以下，10-20nm，20nm以上工艺三分天下的格局，各自市场占有率约为1/3，而28nm以上的成熟工艺在未来四年的市场份额没有明显变化，仍然有很大的市场，所以无需盲目地追求制程工艺。
二、中国高端光刻机什么时候能研制出来
很多人疑惑，中国是世界上工业生产能力最强的国家，为什么中国造不出高端的光刻机？其实最大的原因就是中国的工业是多而不精。光刻机并不是一项技术的突破，而是一整个光学领域绝大多数技术的突破。
目前全球最顶尖的光刻机接近200吨，由差不多十万个零件组成。其中绝大多数都是核心零件，每一个零件都需要很多技术的突破才能做出来。有工程师称，里面一些零件需要打磨十年才能诞生。
虽然最先进的光刻机出自荷兰，但荷兰公司也只是做一个组装和调试的工作，里面的核心零件来源于大多数西方国家。从美国到英国，从法国到比利时，所有站在西方阵营的国家合在一起，才能造出一台最顶尖的光刻机。所以中国要造最顶尖的光刻机并不是在和某一个国家对抗，而是在和整个西方世界对抗。
这就好比班级考试，考试的科目有数百科。总成绩好点的学生固然能考出一个比较高的总成绩，但是这个学生不能让自己每一科的成绩都达到最高。和他相比，那些成绩不好的学生虽然偏科，但是他们总有一两科自己擅长的科目，这些科目总有得高分甚至是满分的机会。这些学生最好的科目加起来，就能组成一个非常高的“各科总成绩”。
要造出最顶端的光刻机，就需要这些科目每一颗都得到极高的分数甚至是满分。所以中国的光刻机之路并不是突破几项新技术就能走稳、走好的，中国需要在整个光学技术上的绝大多数技术中得到突破，才能以一个国家的科技实力对抗整个西方社会。
很多人疑惑中国什么时候能造出最顶尖的光刻机，这个问题的答案没有任何人能给出来。中国在光刻机领域遇到的困难，和中国当年造原子弹时，没有计算机，没有离心机，没有数据资料一样困难。当年中国在美国造出原子弹接近9年后拥有了自己的原子弹，中国现在打算大力研制光刻机也是近两年的事情。
就目前来说，我国最顶尖的光刻机也就是国际上2005年左右的光刻机最顶尖水平，差距在15年左右。所以很多人认为，我国应该会在十来年左右达到让自己的光刻机达到国际社会的最顶尖水平。
