2024年光刻胶十大品牌

十大光刻胶企业排行榜,光刻胶生产厂家排行,光刻胶生产商有哪些
光刻胶什么牌子好?经专业评测的2024年光刻胶十大品牌名单发布啦!居前十的有:JSR、TOK东京应化、ShinEtsu信越、DuPont杜邦、住友化学、FUJIFILM富士、Dongjin、Kempur、晶瑞电材、雅克科技等,上榜光刻胶十大品牌榜单和著名光刻胶品牌名单的是口碑好或知名度高、有实力的品牌,排名不分先后,仅供借鉴参考,想知道什么牌子的光刻胶好?您可以多比较,选择自己满意的!光刻胶品牌主要属于商标分类的第1类。榜单更新时间:2024年09月18日(每月更新)
十大品牌榜
投票榜
口碑点赞榜
分享榜
人气榜
实力榜
  • NO.1
    JSR
    JSR株式会社
    品牌指数: 98.6
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A+++
    成立时间1957年
    老牌品牌
    品牌点赞315+
    关注度1571+
    品牌得票12万+
    日本
    JSR株式会社创立于1957年日本,是全球领先的光刻胶生产商,JSR以乳胶业务起家,1979年开始涉足电子材料市场,2004年JSR开发出了可用于32nm的浸没式ArF光刻胶技术,2011 年与 SEMATECH 联合开发出用于15nm工艺的化学放大型EU...查看更多>>
  • NO.2
    TOK东京应化
    东京应化工业株式会社
    品牌指数: 97.5
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A+++
    成立时间1940年
    老牌品牌
    品牌点赞364+
    关注度1754+
    品牌得票12万+
    日本
    东京应化株式会社成立于1940年,是日本历史悠久的化学材料企业之一,在1968年和1972年先后开发出半导体用负型胶和正型胶,已发展为全球领先的半导体光刻胶生产商,产品覆盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、...查看更多>>
  • NO.3
    ShinEtsu信越
    信越有机硅国际贸易(上海)有限公司
    品牌指数: 96.3
    10个行业上榜十大品牌
    专业测评A+++
    成立时间1926年
    老牌品牌
    注册资本1颗星
    品牌点赞845+
    关注度3224+
    品牌得票98万+
    日本
    信越化工始创于1926年日本,是全球知名高科技原材料的供应商,主要从事有机硅系列产品的研发与生产,1998年信越化学实现光刻胶产品的商用化,KrF光刻胶和ArF光刻胶行业领先者,其光刻胶产品有I/g线光刻胶、Krf光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶。查看更多>>
  • NO.4
    DuPont杜邦
    杜邦中国集团有限公司
    品牌指数: 95.1
    标准起草单位
    12个行业上榜十大品牌
    专业测评A+++
    成立时间1802年
    百年品牌
    注册资本4颗星
    品牌点赞1万+
    关注度10万+
    品牌得票124万+
    美国 品牌产品33+ 品牌网店24+
    杜邦是创立于1802年美国的化工业巨头,全球领先的半导体材料供应商,杜邦光刻胶业务主要源于陶氏杜邦合并前陶氏化学对罗门哈斯的收购,罗门哈斯是一家拥有百余年历史的大型精细化学品制造商,杜邦光刻胶产品主要涵盖i线光刻胶、g线光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶。查看更多>>
  • NO.5
    住友化学
    住友化学投资(中国)有限公司
    品牌指数: 93.7
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A++
    成立时间1913年
    百年品牌
    注册资本3颗星
    品牌点赞247+
    关注度1240+
    品牌得票19万+
    日本
    住友化学工业株式会社隶属于住友集团,始于1913年,是日本较具代表性的综合性化学企业,业务主要包括石油化工、能源和功能材料、信息电子化学、健康和农业相关业务等,sumitomo光刻胶业务主要包含i线、KrF、ArF、EUV光刻胶等。查看更多>>
  • NO.6
    FUJIFILM富士
    富士胶片(中国)投资有限公司
    品牌指数: 92.6
    标准起草单位
    14个行业上榜十大品牌
    专业测评A++
    成立时间1934年
    老牌品牌
    注册资本5颗星
    品牌点赞1万+
    关注度10万+
    品牌得票182万+
    日本 品牌产品39+ 品牌网店25+
    富士胶片株式会社创建于1934年日本,是世界著名的精密化学制造、胶片、存储媒体和相机生产商,业务覆盖影像、印刷、医疗健康、高性能材料等重点领域。富士胶片的光刻胶产品覆盖负胶、i线、KrF、ArF、电子束胶等,目前正在积极研发EUV光刻胶。查看更多>>
  • NO.7
    Dongjin
    韩国株式会社东进世美肯
    品牌指数: 91.3
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A++
    成立时间1967年
    老牌品牌
    品牌点赞182+
    关注度1030+
    品牌得票10万+
    韩国
    DONGJINSEMICHEMCO创建于1967年韩国,主要生产和销售半导体及FPD用材料和发泡剂,1983年东进世美肯着手开发半导体用光刻胶,1990年取得成功,使得韩国成为全球第四个掌握该项技术的国家,2021年与三星电子合作,成功开发出EUV光刻胶。查看更多>>
  • NO.8
    Kempur
    北京科华微电子材料有限公司
    品牌指数: 90.3
    高新技术企业
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A++
    成立时间2004年
    资深品牌
    注册资本3颗星
    品牌点赞129+
    关注度527+
    品牌得票11万+
    北京市
    Kempur是上市公司彤程新材(股票代码:603650)子公司科华微电子旗下品牌,科华微电子是一家集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业,产品覆盖KrF、I-line、G-line、紫外宽谱系列光刻胶,已发展为国内领先的光刻胶产品...查看更多>>
  • NO.9
    晶瑞电材
    晶瑞电子材料股份有限公司
    品牌指数: 89
    深交所上市公司
    高新技术企业
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    成立时间1976年
    老牌品牌
    员工832+人
    注册资本5颗星
    品牌点赞362+
    关注度1182+
    品牌得票9万+
    江苏省苏州市
    晶瑞电材于2017年在深交所上市(股票代码:300655),是一家集研发、生产和销售于一体的科技型新材料公司,为国内外新兴科技领域提供关键材料和技术服务,拥有紫外宽谱光刻胶、宽谱正胶、g线系列、i线光刻胶、KrF光刻胶系列等数十个型号产品,是一家拥有多项自...查看更多>>
  • NO.10
    雅克科技
    江苏雅克科技股份有限公司
    品牌指数: 87.8
    深交所上市公司
    标准起草单位
    高新技术企业
    2个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    员工2930+人
    注册资本5颗星
    品牌点赞1061+
    关注度8417+
    品牌得票33万+
    江苏省无锡市
    雅克科技成立于1997年,致力于电子半导体材料,深冷复合材料以及塑料助剂材料研发和生产的高新技术企业,于2010年在深交所上市(股票代码:002409)。主要提供固化剂、阻燃剂、深冷保温板材、光刻胶等系列产品。其销售网络覆盖全国多个城市,并远销欧洲、美国等...查看更多>>
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品牌榜:2024年光刻胶十大品牌排行榜 投票结果公布【新】
2024年最新的光刻胶品牌榜发布了,此次光刻胶品牌榜共收集了光刻胶行业超过20个品牌信息及1908454个网友的投票做为参考,榜单由CN10排排榜技术研究部门和CNPP品牌数据研究部门提供数据支持,综合分析了光刻胶行业品牌的知名度、员工数量、企业资产规模与经营情况等各项实力数据经人工智能和品牌研究员专业测评而得出,仅供方便用户找到好的品牌参考使用,具体榜单请按最新更新数据为准。
KrF光刻胶和arf光刻胶是什么 krf光刻胶和arf光刻胶区别
光刻胶的种类有很多,按照光源波长的从大到小,可分为紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV等主要品类。KrF光刻胶和arf光刻胶是什么?krf光刻胶和arf光刻胶有什么区别?krf光刻胶和arf光刻胶最大区别是光刻胶的光源波长不同,krf波长为248nm,arf波长为193nm。
光刻胶 芯片
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光刻胶怎么保存 光刻胶使用和储存注意事项
光刻胶在半导体领域应用广泛,是半导体产业生产最关键的材料之一。光刻胶是光刻过程最重要的耗材,光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响,所以在保存光刻胶时要特别注意避光、防潮、低温。下面来了解下光刻胶使用和储存注意事项。
euv光刻胶是什么 euv光刻胶的缺点
euv光刻胶是什么?euv光刻胶也就是极紫外光刻胶,其波长为13.5纳米,几乎所有的光学材料对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收。EUV光刻胶用于晶圆厂的芯片生产,实现精确图案化,但euv光刻胶会出现随机效应,影响芯片的性能,甚至导致设备出现故障。
光刻胶的制造流程 光刻胶制备方法
光刻胶和半导体、芯片之间有密切的关联,在半导体制造中,光刻胶被用于制作芯片的图形化图案。光刻胶的主要成分是光敏剂和聚合物基质。光刻胶的制作过程包括混合、涂布、预烘、曝光、显影、后烘等步骤。下面来详细介绍下光刻胶的制造流程,光刻胶制备方法。
光刻胶 芯片
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光刻胶的优缺点 光刻胶的危害及防护
光刻胶是一种感光材料,可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将掩膜版图形转移至衬底上,形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶作为芯片制造中的一种重要材料,具有精度高、适用范围广、加工速度快的优点,但也具有成本较高、对环境有一定污染、对人体有一定危害的缺点。下面来了解下光刻胶的危害及防护。
光刻胶 芯片
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光刻胶和芯片的关系 光刻胶在芯片制造中的作用
光刻胶是光刻工艺的核心材料,对中国半导体制造至关重要,是芯片生产过程中不可缺少的东西。通过光刻胶的涂布、曝光、显影等步骤,可以在芯片的表面上形成精细的结构,包括导线、晶体管等。光刻胶在芯片制造中有广泛的应用,主要包括芯片图案形成、芯片表面保护、芯片表面修饰。
光刻胶是半导体材料吗 光刻胶和半导体的关系
光刻胶是一种光照后特性会发生改变的高分子化合物,主要用于半导体制造中的图形转移过程。光刻胶是泛半导体产业核心材料,是半导体材料皇冠上的明珠,对于现代电子行业的发展具有重要的意义。下面来了解下光刻胶和半导体的关系。
光刻胶和光刻机有什么区别 光刻胶和光刻机的关系
光刻胶和光刻机仅一字之差,它们之间有什么区别呢?简单来说,光刻胶是一种材料,光刻机是一种机器。在光刻工艺中,需要通过光刻胶把电路印制在基板上,然后在光刻机上进行下一步。光刻胶和光刻机有什么关系?光刻机需要在光刻胶的基础上才开始画图作业。
光刻胶的性能指标包括哪些 光刻胶的主要技术参数
光刻胶是一种特殊的聚合物材料,主要用于光电信息产业的微细图形线路加工制作,对于现代电子行业的发展具有重要的意义。光刻胶的特性对于半导体器件的性能和质量有着至关重要的影响。那么光刻胶的性能指标包括哪些?光刻胶的主要技术参数有哪些?下面来了解下。
光刻胶 芯片
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光刻胶和半导体及芯片的关系

一、光刻胶是什么东西

光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。

二、光刻胶的组成成分有哪些

光刻胶主要由感光剂(光引发剂)、聚合剂(感光树脂)、溶剂与助剂构成。

1、光引发剂是光刻胶的最关键成分,对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。

2、感光树脂用于将光刻胶中不同材料聚合在一起,是构成光刻胶的骨架,决定光刻胶包括硬度、柔韧性、附着力等基本属性。

3、溶剂是光刻胶中最大成分,目的是使光刻胶处于液态,但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎没影响。

4、助剂通常是专有化合物,由各家厂商独自研发,主要用来改变光刻胶特定化学性质。

三、光刻胶是半导体材料吗

光刻胶是半导体制造工艺中光刻技术的核心材料,光刻胶是图形转移介质,其利用光照反应后溶解度不同将掩膜版图形转移至衬底上,主要由感光剂(光引发剂)、聚合剂(感光树脂)、溶剂与助剂构成。光刻胶目前广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作,是电子制造领域关键材料。

光刻胶品质直接决定集成电路的性能和良率,也是驱动摩尔定律得以实现的关键材料。在大规模集成电路的制造过程中,光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺。

四、光刻胶和半导体的关系

光刻胶、半导体和芯片之间有密切的关联,光刻胶是在半导体制造过程中的重要材料,它被用于制作非光刻图案,使得芯片上的电路图案得以形成。在制造芯片的过程中,光刻胶需要被涂覆在芯片表面,然后通过光刻机进行曝光和显影,最终形成芯片上的电路图案。

在半导体制造中,不同的光刻胶可以用于不同的应用。例如,对于高分辨率的微影应用,需要使用高分子聚合物光刻胶。对于高速微影应用,需要使用化学放大型光刻胶。对于深紫外微影应用,需要使用对紫外线敏感的光刻胶。

光刻胶的特性对于半导体器件的性能和质量有着至关重要的影响。例如,光刻胶的粘度和黏度会影响图形的分辨率和深度。光刻胶的抗溶剂性和耐辐射性会影响图形的精度和稳定性。光刻胶的化学稳定性和热稳定性会影响图形的形成和保持时间。

随着半导体技术的不断发展,光刻胶也在不断的改进和发展。例如,近年来出现了新型的无机光刻胶,具有更高的抗辐射性和化学稳定性。另外,还有一些新型的光刻胶,如光敏聚合物和电子束光刻胶等,具有更高的分辨率和稳定性。

五、光刻胶和芯片的关系

芯片和光刻胶是电子产业中不可缺少的两个元素,二者密切相关。芯片是当今计算机和其他电子设备中的核心部件,是信息处理和存储的基础。而光刻胶是制造芯片的重要工具之一,起着制造精度和速度的关键作用,是芯片制造中不可或缺的一步。

1、芯片设计

芯片的整个生产过程需要经历设计、加工、制造等多个环节。首先,在芯片的设计阶段,需要计算机辅助设计软件来生成芯片的模型图。在模型图中,芯片的形状、电路、线路均已确定。设计完成后,需要将模型转化为图形数据,这个过程就是芯片CAD。

2、芯片制备

芯片制备的主要工作包括光刻、掩膜制作、离子注入、化学腐蚀等。其中,光刻是制备芯片中最为重要的一环。光刻胶就是在这个环节中必须使用的一种材料。通过光刻胶的涂布、曝光、显影等步骤,可以在芯片的表面上形成精细的结构,包括导线、晶体管等。光刻胶的质量直接影响到芯片的加工精度和品质。

3、光刻胶的应用

光刻胶会被涂在用于制造芯片的基底上。基底通常是硅晶片。在加工过程中,光刻胶将被涂成非常细薄的一层,通常只有1-2微米。光刻胶涂好后,将会在光刻机上进行曝光。曝光光源照射在光刻胶上,形成一个芯片的模型图案。之后经过显影,光刻胶就会被去除,裸露出芯片基底上的那一小块预期的结构。光刻胶的质量和应用技术的精度,直接关系到最终芯片的品质和精度,是制造芯片的一道关键工序。

从芯片CAD,到设计,加工,制造等环节,光刻胶都无处不在。它是芯片制造的配角,但作用十分重要。芯片越来越小,对精度的要求越来越高,这使得光刻胶材料和加工技术也在不断地进步和革新。

六、光刻胶和光刻机有什么区别

光刻胶和光刻机的区别在于作用不同。光刻胶是一种有机化合物,成分是感光树脂、增感剂和溶剂,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。而光刻机是制造芯片的核心装备,采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

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