2024年光刻机品牌

光刻机品牌排行榜,半导体光刻机企业排行,光刻机有哪些品牌
光刻机哪个好?经专业评测的2024年光刻机名单发布啦!居前四的有:ASML阿斯麦、Nikon、Canon、上海微电子Smee等,上榜光刻机四大榜单和著名光刻机名单的是口碑好或知名度高、有实力的,排名不分先后,仅供借鉴参考,想知道哪个光刻机好?您可以多比较,选择自己满意的!光刻机品牌主要属于商标分类的第7类。榜单更新时间:2024年09月18日(每月更新)
十大品牌榜
投票榜
口碑点赞榜
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人气榜
实力榜
  • NO.1
    ASML阿斯麦
    阿斯麦(上海)光刻设备科技有限公司
    品牌指数: 88.6
    3个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    成立时间1984年
    老牌品牌
    注册资本2颗星
    品牌点赞1378+
    关注度1万+
    品牌得票34万+
    荷兰
    ASML创立于1984年,全球芯片光刻设备市场领导者,是全球最大的半导体光刻设备制造商之一,ASML于2000年推出TWINSCAN光刻机,2010年成功研发首台EUV光刻机,是当前唯一可以生产EUV光刻机的公司。ASML在全球10余个国家设有60余个办公室。查看更多>>
  • NO.2
    Nikon
    尼康精机(上海)有限公司
    品牌指数: 87.5
    2个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    注册资本3颗星
    品牌点赞506+
    关注度2609+
    品牌得票28万+
    日本
    Nikon光刻机隶属尼康精机事业部,研制用于半导体生产的半导体光刻设备的开发与研究,Nikon光刻机业务涵盖ArFi光刻机、ArF光刻机、KrF光刻机、i-line光刻机系列集成电路用光刻机及面板用光刻机,是全球范围内较大的光刻机制造商。查看更多>>
  • NO.3
    Canon
    佳能光学设备(上海)有限公司
    品牌指数: 86.2
    1个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    注册资本3颗星
    品牌点赞307+
    关注度1690+
    品牌得票14万+
    日本
    佳能光刻机历史源于Canon对相机镜头技术的应用,Canon于1970年成功发售日本首台半导体光刻机PPC-1,目前佳能的光刻机产品包括i线光刻机和KrF光刻机产品线,佳能光学设备是佳能公司在中国大陆地区成立的提供半导体及液晶面板生产设备营业辅助业务和技术支持业务的公司。查看更多>>
  • NO.4
    上海微电子Smee
    上海微电子装备(集团)股份有限公司
    品牌指数: 85
    国家企业技术中心
    2个行业上榜十大品牌
    专业测评A+
    成立时间2002年
    资深品牌
    注册资本4颗星
    品牌点赞1259+
    关注度3万+
    品牌得票22万+
    上海市
    SMEE成立于2002年,是国产半导体光刻设备领域佼佼者,主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务,广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。查看更多>>
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品牌榜:2024年光刻机十大品牌排行榜 投票结果公布【新】
2024年最新的光刻机品牌榜发布了,此次光刻机品牌榜共收集了光刻机行业超过4个品牌信息及415838个网友的投票做为参考,榜单由CN10排排榜技术研究部门和CNPP品牌数据研究部门提供数据支持,综合分析了光刻机行业品牌的知名度、员工数量、企业资产规模与经营情况等各项实力数据经人工智能和品牌研究员专业测评而得出,仅供方便用户找到好的品牌参考使用,具体榜单请按最新更新数据为准。
中国光刻机现在多少纳米 中国高端光刻机什么时候能研制出来
光刻机是制造芯片的关键设备,是世界上最复杂的精密设备之一,也是工时和成本占比最高的设备,更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶,目前世界上只有3个国家有能力制造出光刻机,我国就是其中一个。那么,中国光刻机现在多少纳米?中国高端光刻机什么时候能研制出来?
光刻机 芯片
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制造芯片一定要光刻机吗 蚀刻机能代替光刻机吗
芯片堪称工业的粮食,是科技时代的重要生产力,手机、电脑及数码产品都离不开芯片的支撑,而制造芯片的重要设备之一就是光刻机,但是光刻机很稀缺,全球只有3个国家能造,那么制造芯片一定要光刻机吗?蚀刻机能代替光刻机吗?下面来了解下。
光刻机 芯片
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光刻机哪个国家的最好 为什么荷兰能够造出顶级的光刻机
光刻机是一个非常尖端的工艺技术,目前仅有少数国家能研制光刻机,那么光刻机哪个国家的最好?在高端光刻机领域,荷兰是领头羊,很多发达国家都严重依赖荷兰的光刻机,在光刻机领域有着绝对的话语权。为什么荷兰能够造出顶级的光刻机?下面来了解下。
光刻机 芯片
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光刻机中国能造吗 国产光刻机和荷兰光刻机的差距在哪里
光刻机是光刻工艺的核心设备,光刻的工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平,目前光刻机做的最好的国家就是荷兰,我国虽然也有研制光刻机的能力,但国产光刻机与国外顶尖光刻机存在的差距比较明显。下面来了解下国产光刻机和荷兰光刻机的差距。
光刻机 芯片
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光刻机多少钱一台 一台光刻机一天能生产多少芯片
光刻机是我国现代技术的一个短板,在芯片技术的发展上,我国也一直受国外的制裁。但是对于现代工业来说,芯片是核心中的核心,没有了芯片,很多产品都有可能陷入瘫痪当中。那么光刻机多少钱一台?一台光刻机一天能生产多少芯片?
光刻机 芯片
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光刻机哪个国家能造 光刻机的难度在哪里
光刻机被誉为“现代光学工业之花”,号称比研制原子弹还困难!全球只有3个国家能造。在全球高端光刻机市场,荷兰达到全球领先水平,除了荷兰,日本、中国也可以制造光刻机。但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”,至今都没能突破尖端技术。那么,研制光刻机的难度在哪里?
光刻机 芯片
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光刻机是干什么用的 光刻机的工作原理
光刻机是芯片制造的核心设备之一,被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”,无论生产制造什么样的芯片,都脱离不了光刻机。光刻机采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。下面来了解下光刻机。
光刻机的种类有哪些 光刻机怎么制造芯片
光刻机顾名思义就是“用光来雕刻的机器”,是芯片产业中宝贵且技术难度最大的机器。光刻机的种类有哪些?光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,有接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光等光刻机。光刻机怎么制造芯片?下面来了解下。
光刻机 芯片
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光刻机是谁发明的 光刻机制造需要哪些技术
光刻机是一种高精密芯片制造设备,如果想要自主生产芯片,光刻机是必要的。那么光刻机是谁发明的?光刻机是法国人Nicephore niepce尼埃普斯发明的,现已成为半导体生产制造的主要生产设备。光刻机制造需要哪些技术?下面来了解下。
光刻机 芯片
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光刻机的工作原理及关键技术

一、光刻机是干什么用的

光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。

光刻机决定了芯片的精密尺寸,设计师设计好芯片线路,再通过光刻机将线路刻在芯片上,其尺度通常在微米级以上。

光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备,因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。

其实生产高精度芯片并不难,只是生产速度太慢,而光刻机能快速生产高精度的芯片,所以很重要。

二、光刻机的工作原理

利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件。

简单点来说,光刻机就是放大的单反,光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上,形成图形。

三、光刻机的性能指标

光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。

四、光刻机制造需要哪些技术

光刻机的制造体系非常复杂,有两点至关重要,即精密零部件和组装技术。

1、精密零部件

一台光刻机的制造需要数万个精密零部件。通常来说,一台光刻机的制造需要大约八万个精密零件,而目前世界上最为先进的极紫外EUV光刻机所需要的制造零件更是高达十万余个。

一套完整的光刻机包括多个组成系统,主要包括曝光系统、自动对准系统、整机软件系统等。其中,曝光系统更是包含了照明系统和投影物镜。

在组成光科技的所有核心精密零件中,光学镜头、光学光源、双工作台又可以说是核心中的核心。

拥有高数值孔径的光学镜头是决定光刻机的分辨率和阈值误差能力。而分辨率和套值误差能力对于一台品牌光刻机具有至关重要的重要性。而世界上最为先进的EUV极紫外光刻机唯一可以使用的镜头就是由蔡司公司生产的镜头。

光刻机的光学光源所包含的光源波长是决定光刻机工业能力的重要部分。需要特别注意的是,光刻机所需要的光源,必须具备体积小、功率高以及稳定的几个特点。

比如说极紫外EUV光刻机所使用的光源波长是仅仅只有13.5纳米的极紫外光,其所使用的光学系统极为复杂。

光刻机中所需要的工作台系能够影响光刻机运行过程中的精度和产效,含有的综合技术难度非常高。因为这种工作台中具有承载硅片来能够完成光刻机运行过程中的一系列超精密的运动系统,其中包括上下片、对准、景圆面型测量、曝光等等。

2、组装技术

一台光刻机不仅需要精密的零件,这些零件的组装技术也至关重要。

当所有零件都准备就绪之后,接下来的组装过程将直接影响一个光刻机的运行效能。现在光刻机主要生产商荷兰ASML公司(中文译名:阿斯麦尔)的生产过程从本质上来说更像是一个零件组装公司,因为ASML公司生产光刻机所需要的将近90%的部件是从世界各地采购,其在世界上拥有超过五千家供应商。

换句话说,ASML公司之所以能够在光刻机制造技术上打败尼康以及佳能等其他光刻机生产对手,从而在全球光刻机制造和销售市场上占据领先地位,一个重要原因就是强大的组装技术。

一家强大的光刻机组装企业需要具有各种娴熟的技术工人和各种组装方面的知识产权,从而能够清楚明白各种精密元件如何组装,进而通过他们娴熟的操作和系统的知识来快速和精确的制造一台光刻机。

我国目前在光刻机的技术方面,经过近二十年的关键技术攻克,已经取得长足发展。

从光刻机双工作台来说,中国华卓精科与清华团队生产联合研制的双工作台已经打破ASML的技术垄断,至于光刻机的同步光源设备和光学镜头的技术也在哈工大等全国知名科研机构的潜心研究中获得了迅猛发展。

可以说,目前我国人才、资源、资金等各个方面都已具备,未来我们拥有属于自己的光刻机只是时间问题,未来前景可期!