一、光刻胶怎么保存
1、温度：光刻胶应存放在低温环境下，一般建议存放在-20℃以下的冰箱中，避免光刻胶受热变质。同时，光刻胶在存放和使用过程中应避免受到温度变化的影响，以免影响其性能和质量。
2、光照：光刻胶应避免直接暴露在强光下，以免光刻胶受到光照而失去灵敏度。因此，在存放和使用光刻胶时，应尽量避免光照，可以使用黑色遮光袋或黑色遮光箱进行保护。
3、湿度：光刻胶应存放在干燥的环境中，避免受潮。因为潮湿的环境会影响光刻胶的性能和质量，甚至会导致光刻胶失效。因此，在存放和使用光刻胶时，应尽量避免受潮，可以使用密封袋或密封容器进行保护。
4、震动：光刻胶应避免受到剧烈的震动和振动，以免影响其性能和质量。因此，在存放和使用光刻胶时，应尽量避免受到震动和振动，可以使用泡沫箱或其他缓冲材料进行保护。
二、光刻胶使用和储存注意事项
1、保存
光刻胶中的光敏组分是非常脆弱的，除了有温度的要求外，对于储存时间和外包装材料有很严格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包装，再套上黑色塑料袋。
光刻胶的保存期限一般为6个月至1年左右，具体时间取决于光刻胶的种类和保存条件。因此，在存放和使用光刻胶时，应注意光刻胶的保存期限，避免使用过期光刻胶。
2、光刻胶的涂布温度
光刻胶涂布温度一般要和室温相同，原因是与室温相同可以大减少光刻胶的温度波动，从而减少工艺波动。而净化间室温一般是23度，所以光刻胶涂布温度一般为23度。一般在旋涂的情况下，高于会中间厚，低于会中间薄。同时涂布前，wafer也需要冷板，保证每次涂布wafer的温度一致。
3、涂布时湿度的控制
现在光刻胶涂覆工段一般都与自动纯水清洗线连在一起，很多时候都只考虑此段的洁净度，而疏忽了该段的湿度控制，使得光刻胶涂覆的良品率比较低，在显影时光刻胶脱落严重，起不到保护阻蚀的效果。
4、涂胶后产品的放置时间的控制
在生产设备出现故障等特殊情况下，涂完光刻胶的产品需要保留，保留的时间一般不超过8小时，曝光前如已被感（即胶膜已失效），不能作为正品，需返工处理。
5、前烘温度和时间的控制
前烘的目的是促使胶膜内溶剂充分挥发，使胶膜干燥以增强胶膜与基板表面的粘附性和胶膜的耐磨性。曝光时，掩模版与光刻胶即使接触也不会损伤光刻胶膜和沾污掩模膜，同时只有光刻胶干净、在曝光时，光刻胶才能充分地和光发生反应。同时注意前烘的温度不能过高，过高会造成光刻胶膜的碳化，从而影响光刻效果。一般情况下，前烘的温度取值比后烘坚膜温度稍低一些，时间稍短一些。
6、显影条件的控制
显影时必须控制好显影液的温度、浓度及显影的时间。在一定浓度下的显影液中，温度和时间直接影响的速度，若显影时间不足或温度低，则感光部位的光刻胶不能够完全溶解，留有一层光刻胶，在刻蚀时，这层胶会对膜面进行保护作用，使应该刻蚀的膜留下来。若显影时间过长或温度过高，显影时未被曝光部位的光刻胶也会被从边缘里钻溶。使图案的边缘变差，再严重会使光刻胶大量脱落，形成脱胶。
