一、KrF光刻胶是什么
光刻胶根据不同的曝光光源分为不同的类型，曝光光源从宽谱紫外线发展到I线（365nm）、KrF线（248nm）、ArF线（193nm）以及EUV（13.5nm）光源，而不同的光源要求使用不同的光刻胶。KrF光刻胶就是运用KrF（248nm）曝光光源时所需要的光刻胶。KrF光刻胶主要应用于0.13m以上线宽，包含离子注入层，抗刻蚀层等多种工艺中。
二、arf光刻胶是什么
ArF光刻胶，是半导体光刻胶的一种，属于高端光刻胶产品，用来制造12英寸大硅片（硅晶圆）。在光刻胶产品中，半导体光刻胶技术壁垒最高；在半导体光刻胶产品中，ArF光刻胶是技术含量最高的产品之一。ArF光刻胶是第四代光刻胶，行业进入技术壁垒高，全球量产企业数量少。
三、krf光刻胶和arf光刻胶区别
krF光刻胶与ArF光刻胶都主要用于半导体领域，二者最大区别是光刻胶的光源波长不同，其中krf波长为248nm，arf波长为193nm，arf光刻胶的分辨率更好，技术含量更高。arf和krf都属于深紫外光范畴，也都是duv光刻机应用光源，但是光源技术上相差一代。另外，由于光源波长不同，krf光刻胶和arf光刻胶也不能通用。
