2025年蚀刻机十大品牌

十大蚀刻机品牌排行榜,半导体蚀刻机厂家排行榜前十名,刻蚀设备厂家有哪些
蚀刻机什么牌子好?经专业评测的2025年蚀刻机十大品牌名单发布啦!居前十的有:Lam Research泛林集团、Tokyo Electron、AMAT应用材料、北方华创、中微AMEC、日立高新HITACHI、KLA科磊、SEMES、屹唐半导体、OXFORD等,上榜蚀刻机十大品牌榜单和著名蚀刻机品牌名单的是口碑好或知名度高、有实力的品牌,排名不分先后,仅供借鉴参考,想知道什么牌子的蚀刻机好?您可以多比较,选择自己满意的!蚀刻机品牌主要属于商标分类的第7类。榜单更新时间:2025年09月03日(每月更新)
十大品牌榜
人气榜
口碑点赞榜
荣誉勋章榜
关注榜
  • NO.1
    Lam Research泛林集团
    泛林半导体设备技术(上海)有限公司
    3个行业上榜十大品牌
    1个行业品牌金凤冠
    成立时间1980年
    注册资本3颗星
    关注度1215+
    品牌得票1万+
    美国
    品牌指数93.2
    评分9 口碑指数2880 已点亮标签7个 未点亮标签6个
    Lam Research创立于1980年美国,是全球领先的晶圆制造设备、技术和服务提供商,主营刻蚀设备、薄膜沉积设备和清洗设备,居于刻蚀设备行业领导地位,在纳米级应用支持,化学,等离子和流体技术等领域建立了强大的竞争力,Lam Research于1994年进入国内,目前在中国设有10余个分公司及办事处。查看更多>>
  • NO.2
    Tokyo Electron
    东电电子(上海)有限公司
    4个行业上榜十大品牌
    成立时间1963年
    注册资本3颗星
    关注度1397+
    品牌得票1万+
    日本
    品牌指数92.1
    评分8.9 口碑指数408 已点亮标签6个 未点亮标签7个
    TOKYO ELECTRON成立于1963年日本,是全球知名半导体制造设备、液晶显示器制造设备提供商。主要产品涵盖涂布/显像设备、热处理成膜设备、干法刻蚀设备、CVD、湿法清洗设备及测试设备,已在日本、美国、欧洲、韩国、中国等地都建立了自己的网点,在全球多个国家和地区已拥有80多个分支机构。查看更多>>
  • NO.3
    AMAT应用材料
    应用材料(中国)有限公司
    3个行业上榜十大品牌
    成立时间1967年
    注册资本3颗星
    关注度1196+
    品牌得票1万+
    美国
    品牌指数90.9
    评分8.5 口碑指数419 已点亮标签6个 未点亮标签7个
    AMAT成立于1967年,以薄膜沉积设备起家,是全球极具影响力的半导体和显示设备制造商之一,目前产品与服务已覆盖原子层沉积、物理气相沉积、化学气相沉积、刻蚀、快速热处理、离子注入、测量与检测、清洗等生产步骤,AMAT于1984年进入国内,是第一家进入中国的国际芯片制造设备公司。查看更多>>
  • NO.4
    北方华创
    北方华创科技集团股份有限公司
    深交所上市公司
    国家技术创新示范企业
    国家知识产权示范企业
    高新技术企业
    瞪羚企业
    5个行业上榜十大品牌
    9个行业品牌金凤冠
    成立时间2001年
    员工1万+人
    注册资本5颗星
    关注度6541+
    品牌得票2万+
    北京市
    品牌指数89.7
    评分9.1 口碑指数779 已点亮标签13个 未点亮标签7个
    北方华创成立于2001年,深交所上市公司(股票代码:002371),是国内领先的半导体装备制造与服务商,旗下北方华创微电子主要提供刻蚀机、PVD、ALD、CVD、氧化/扩散炉、清洗机、气体质量流量计等高端半导体工艺装备及核心零部件,为半导体、新能源、新材料等领域提供解决方案。查看更多>>
  • NO.5
    中微AMEC
    中微半导体设备(上海)股份有限公司
    上交所上市公司
    国家企业技术中心
    标准起草单位
    高新技术企业
    瞪羚企业
    2个行业上榜十大品牌
    5个行业品牌金凤冠
    成立时间2004年
    员工2480+人
    注册资本5颗星
    关注度3050+
    品牌得票1万+
    上海市
    品牌指数88.4
    评分8.9 口碑指数643 已点亮标签13个 未点亮标签7个
    中微公司始于2004年,2019年于上交所上市(股票代码:688012),是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司,为集成电路和泛半导体行业提供高端设备和服务,国内刻蚀设备行业佼佼者,主要产品涵盖刻蚀设备、MOCVD设备、薄膜设备,服务遍布国内、新加坡、韩国、德国、意大利等国家和地区。查看更多>>
  • NO.6
    日立高新HITACHI
    日立高新技术(上海)国际贸易有限公司
    6个行业上榜十大品牌
    4个行业品牌金凤冠
    注册资本3颗星
    关注度2805+
    品牌得票3万+
    日本
    品牌指数87.1
    评分8.5 口碑指数518 已点亮标签6个 未点亮标签7个
    日立高新是一家全球知名的跨国仪器设备公司,从事临床分析仪、生物技术产品和分析仪器、半导体制造设备和分析设备的制造和销售等领域的活动,业务涉及电子设备系统、科学•医疗系统、工业•IT系统、先进工业部件等领域,在全球20多个国家及地区,拥有逾万人的员工。查看更多>>
  • NO.7
    KLA科磊
    科磊半导体设备技术(上海)有限公司
    2个行业上榜十大品牌
    成立时间1997年
    注册资本3颗星
    关注度1563+
    品牌得票8024+
    美国
    品牌指数86
    评分8.8 口碑指数432 已点亮标签6个 未点亮标签7个
    KLA科磊由KLA和Tencor两家公司于1997年合并而成,是全球领先的半导体检测设备供应商,半导体前道量测设备领域影响力企业,产品贯穿前道工艺过程控制全流程,为半导体制造及相关行业提供良率管理和制程控制解决方案,1999年在国内设立第一个分公司,目前已在国内设立了10个办公室。查看更多>>
  • NO.8
    SEMES
    细美事(西安)电子设备有限公司
    1个行业上榜十大品牌
    注册资本1颗星
    关注度5+
    品牌得票3116+
    韩国
    品牌指数84.8
    评分8.6 口碑指数85 已点亮标签5个 未点亮标签5个
    韩国SEMES是三星集团旗下核心半导体设备制造商,专注于清洗、蚀刻、镀膜等关键制程设备的研发生产,产品广泛应用于存储器、逻辑芯片及显示面板制造领域。凭借与三星电子协同创新的技术优势,SEMES设备已进入全球知名晶圆厂供应链,近年来通过在西安等地设立子公司,加速布局亚洲半导体设备市场。查看更多>>
  • NO.9
    屹唐半导体
    北京屹唐半导体科技股份有限公司
    1个行业上榜十大品牌
    1个行业品牌金凤冠
    成立时间2015年
    注册资本5颗星
    关注度838+
    品牌得票5811+
    北京市
    品牌指数83.7
    评分8.8 口碑指数686 已点亮标签7个 未点亮标签6个
    屹唐半导体是国内知名的半导体设备供应商,主要聚焦于刻蚀、热处理等前道核心工艺装备的研发与产业化发展。公司通过构建国际化研发团队和严格的质量体系,致力于帮助客户提升产品良率与生产效率,其干法刻蚀设备在业界享有盛誉,目前已服务全球多个大型晶圆厂商。查看更多>>
  • NO.10
    OXFORD
    牛津仪器科技(上海)有限公司
    标准起草单位
    1个行业上榜十大品牌
    2个行业品牌金凤冠
    成立时间1959年
    注册资本3颗星
    关注度2016+
    品牌得票8522+
    英国
    品牌指数82.4
    评分8.8 口碑指数689 已点亮标签8个 未点亮标签6个
    全球知名的精密仪器制造商,在半导体、新能源和生物医学等前沿领域享有一定的技术优势和市场占有率。牛津仪器OXFORD专注于提供精密科学仪器和相关工程解决方案,业务涵盖材料分析、纳米技术、低温物理及工业应用等领域,其服务范围现已覆盖海内外多个国家和地区。查看更多>>
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十大蚀刻机品牌排行榜 半导体蚀刻机厂家排行榜前十名 刻蚀设备厂家有哪些
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蚀刻机是干什么用的、和光刻机有什么区别

一、蚀刻机是干什么用的

蚀刻机是一种采用化学或物理方法,对金属、半导体、玻璃等材料表面进行选择性去除的精密加工设备,其核心作用是在材料表面刻蚀出预设的微细图案或结构,以满足高精度制造的需求。

工作时,设备首先在材料表面覆盖掩膜(如光刻胶或金属掩模版),以保护不需加工的区域,仅使目标区域暴露;随后根据工艺要求选择不同的蚀刻方式——化学蚀刻利用酸、碱等蚀刻剂与暴露区域发生化学反应,溶解并去除材料;物理蚀刻则借助等离子体轰击、激光消融等手段,通过物理作用剥离目标区域的材料。

该设备广泛应用于半导体芯片制造(刻蚀电路图形)、PCB电路板加工(形成导线和过孔)、五金件精密成型(如滤网孔、装饰纹理)以及显示面板生产(制作电极图案)等领域。凭借高加工精度和实现复杂结构的能力,蚀刻机已成为电子信息与高端制造行业中不可或缺的关键设备。

二、蚀刻机和光刻机有什么区别

蚀刻机与光刻机同为芯片制造过程中的核心设备,二者的主要区别体现在核心功能、工作环节及技术重点上,在实际生产中需紧密协同:

1、核心功能不同:光刻机承担“图案转印”功能,类似于“投影仪+冲印”,通过极紫外光(EUV)等光源将掩模版上的电路图案投射至涂有光刻胶的晶圆表面,形成临时的“电路潜影”;而蚀刻机则起“实体雕刻”作用,好比“刻刀”,利用等离子体或化学溶液去除未被光刻胶保护的晶圆材料,从而将显影后的图案转化为实际的电路沟槽或孔洞。

2、工作顺序不同:在芯片制造流程中,光刻机首先进行光刻步骤,完成图案曝光与显影;蚀刻机随后对已显影的晶圆执行蚀刻操作。两者依次配合完成一层电路的图形化制作,而一颗芯片需经历数十次这样的循环工序。

3、技术重点不同:光刻机的关键技术在于光源的精度与成像系统(如EUV波长决定最小线宽,物镜数值影响分辨率);蚀刻机则更注重刻蚀的选择比、均匀性与各向异性控制,以确保精确去除目标材料而不损伤其他结构。