光刻机
一、有了光刻机就能造芯片？
其实光刻只是半导体前道7大工艺环节（光刻、刻蚀、沉积、离子注入、清洗、氧化、检测）中的一个环节，虽然是最重要的环节之一，但是离开了其他6个环节中的任何一个都不行。
集成电路的制造工艺分为“三大”＋“四小”工艺：
三大（75％）：光刻、刻蚀、沉积；
四小（25％）：清洗、氧化、检测、离子注入。
一般情况下光刻占整条产线设备投资的30％，与刻蚀机（25％）、PVD／CVD／ALD（25％）并列成为最重要的三大前道设备之一，所以并不是有了光刻机就能造芯片，光刻只是芯片制造工艺流程的中的一个，还需要其他6大前道工艺设备的支撑，其重要程度与光刻机同等重要。
二、光刻机刻一枚芯片需要多久
根据有关专家的介绍，芯片自身虽小，其制造工艺却是极其复杂的过程，每一步都融合了诸多高科技技术，从专业角度介绍，芯片的制造要经过光刻、离子注入、时刻以及曝光等多重程序，其中光刻机主要在光刻这一阶段发挥作用。
由于芯片自身体积很小，但是却要承载着巨大的功能，因此芯片的光刻阶段也需要十分细致的操作，对于工作人员的要求是十分精细的。
首先芯片的光刻需要用到高端的精密仪器进行操作，其次还需要工作人员十分熟练。一旦发生一丝的失误，极有可能导致芯片的报废，因此芯片在进入光刻阶段之前，其实还需要大量的准备工作。
这就需要设计师事先将图纸准备好，并且经受多种检验，这一过程就需要耗费很长的时间，市场需要反复操作。
通过检验之后，才能够进入芯片的正式生产过程，而真正光刻需要的时间其实并没有准备时间那么长，另外随着技术的发展，相信芯片制造的整个过程耗费的时间还将会越来越短。
